光刻机不管是DUV还是EUV，最难的就四大块：光源系统、反射镜系统、双工件台、最后到整机集成。
光刻机由三大核心系统，数万个零件组成，是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。目前极紫外光刻机的关键部件只有三个：极紫外光源，光学透镜，以及两个工作平台。这三个因素是我们不能避免的。就拿ASML来说，它的EUV光刻设备由德国的蔡司公司生产，EUV光源则由其所并购的Cymer公司生产，双工件平台则被ASML所垄断。
一，光源系统
光源方面，DUV采用准分子激光器，技术掌握在Cymer和Gigaphoton手中，国内科益虹源打破垄断；EUV光源是通过高功率CO2激光器轰击Sn滴而来，高功率激光器为核心组件。
光源系统的核心包括光源晶体、物镜、激光器等。
1）深紫外线光源晶体（DUV）:Cymer（美）、Gigaphoton （美）、中科院福建物构所（中）
极紫外线光源晶体（EUV）：Cymer（美）、中国科学院长春光机所（中）
2）物镜（DUV）：蔡司/徕卡（德）、佳能（日）、尼康（日）、至期（中）、茂莱（中）
物镜（EUV）: 蔡司（德）
3）激光器（DUV）：通快（德）、Laser Light（美）、科益虹源（中）
激光器（EUV）: 通快（德）、Laser Light（美）
二，反射镜系统
光学系统是光刻机分辨率成像的保证，由照明系统和物镜系统构成，照明系统优化成像过程，实现分辨率增强；投影物镜系统将掩模图形聚焦成像，ZEISS为ASML关键光学元件独供商，国内技术水平仍有较大差距。
反射系统的核心就高精度反射镜。难度高到离谱，如果将DUV镜头放大到中国东西距离那么大的直径，加工产生的高低起伏误差比乒乓球直径还要小，EUV就更离谱了,而且不是一块，是很多块！
（DUV光刻机反射系统图）
超高精度反射镜（DUV)：蔡司（德）、佳能/尼康（日）、至期光子/国望/茂莱（中）
超高精度反射镜 (EUV): 蔡司（德）
三，双工作台
所谓的双工件平台，就是指两个平台，用来支撑一块硅片，可以单独操作。为了提高产量，高端的EUV光刻机，需要非常高的加工精度。双工件平台是目前集成电路行业中最难解决的问题之一，一直被ASML公司所垄断。
超高精度超真空双工件台（DUV）:ASML(荷)、佳能/尼康（日）、华卓精科（中）
超高精度超真空双工件台（EUV）:ASML(荷)
北京华卓精科
华卓精科成立于2012年，主营业务为集成电路制造装备及关键零部件的研发和产业化。目前产品包括光刻机双工件台及其衍生产品超精密运动平台、激光退火设备、晶圆键合设备等。
由北京华卓精科联合清华大学研发的双工件平台，已经在技术及制造上完全自主研发，并在技术及工艺上已经接近ASML的水准。据报道，这款双工件平台具有1.8纳米的精确性，而在高速运转时，其精确性可达2纳米。这项技术的成功，不但将彻底结束ASML在“双工件平台”领域的统治地位，更将为国内的EUV光刻机画上一个圆满的结局。
万业企业：房地产+光刻机
互动易：万业企业作为上海半导体装备材料基金的主要LP，通过基金入股华卓精科，布局光刻机双工台核心设备 有强烈预期差。
四，整机制造
DUV光刻机：ASML(荷)、尼康/佳能（日）、上海微电子（中）
EUV光刻机：ASML(荷)、长春光机所（中）
五，光刻清洗：富乐德、红宝丽
本次华为7nm芯片，其中最核心的步骤为多重曝光，是绝对增量环节，后续有望成为新的科技分支接力光刻机行情，务必重视!
其中，光刻胶清洗剂作为重要耗材，随着多重曝光技术的推进，用量大幅增加!
重点关注红宝丽，公司一异内醇胺可以用于电子化学品光刻胶清洗剂，是清洗剂上游必需品，有望深度受益于光刻胶多重曝光工艺。
奥普光电：EVU光源方面技术储备超过上海微电子
中科院长光所下唯一上市公司，公司而且本事做的也是光刻机镜头和光源的相关业务，虽然长光所的国科精密卖给了国旺光学，但长光所同时也持有了国望光学股份，而且从最近一些长光所的科技金奖项目和内部信息来看，它的EVU光源方面技术储备超过上海微电子，而且和哈工合作，在光刻机方面有巨大突破。但这个公司你问的时候都喜欢说我什么都没做，华工大被ZC大家都知道吧
富乐德：半导体设备洗净服务+显示面板设备清洗+次新股
①、公司是国内泛半导体设备精密洗净领先服务商，业务涵盖半导体设备洗净服务、显示面板设备清洗服务及半导体设备维修服务三大板块，目前已经掌握了成熟的28/14纳米制程PVD部件清洗再生技术，成功打破了日韩和欧美国家技术垄断。
②、根据芯谋研究发布的《国内泛半导体设备零部件洗净服务行业发展研报》(中国大陆地区),公司精密洗净等业务市场占有率处于国内领先地位。
③、客户端与英特尔、台积电、京东方等头部客户建立了合作关系，中芯国际为公司第三大客户。
④、公司所提供的半导体设备维修服务主要为HS翻新服务，主要是为CMP设备研磨头进行清洗、配件更换维修再生服务。
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