一，光刻机，制造半导体芯片的核心装备
光刻机又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造半导体芯片的核心装备。
它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，包含上万个零部件。
半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现。光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
二，纳米压印技术，被认为最有可能替代EUV的下一代光刻技术
全世界最先进的芯片，几乎都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，因此业界一直在研究替代方案。除了全力研发光刻机，纳米压印技术能不能制造芯片？事实上，光刻技术本身存在多种路线，离产业最近的，当属纳米压印光刻。
佳能公司与大日本印刷、铠侠正共同开发纳米压印设备。佳能提供NIL产品线，东芝是他们的早期客户之一，应用于NAND闪存的生产。号称可以不使用EUV光刻机将芯片制程提升到5纳米水平。佳能将在日本东部栃木县新建一座半导体设备厂，计划2025年春季开始运营。这是佳能21年来建造的第一座光刻设备新工厂。纳米压印技术，就是被认为最有可能替代EUV的下一代光刻技术。
三，什么是纳米压印技术？
纳米压印技术，即NanoimprintLithography(NIL)，是一种新型的微纳加工技术。该技术将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术转移到涂有高分子材料的硅基板上。纳米压印的分辨率由所用印模板图形的大小决定，物理上没有光刻中的衍射限制，纳米压玉印技术可以实现纳米级线宽的图形。
紫外纳米压印光刻与光学光刻流程对比：
可以理解为，纳米压印技术造芯片就像盖章一样，把栅极长度只有几纳米的电路刻在印章（掩膜）上，再将印章盖在橡皮泥（压印胶）上，实现图形转移后，然后通过热或者UV光照的方法使转移的图形固化，以完成微纳加工的“雕刻”步骤。
纳米压印替代的是光刻环节，只有光刻的步骤被纳米压抑技术代替，其他的刻蚀、离子注入、薄膜沉积这些标准的芯片制造工艺是完全兼容的，能很好的接入现有产业，不用推翻重来。
四，纳米压印技术实际应用
1、存储芯片的制作，相关公司如凯侠、佳能、东芝、SK海力士和三星等。
2、CPU制造，纳米压印技术能够实现高分辨率的图案转移，制造出具有复杂结构的芯片。这将有助于提高CPU的性能和功耗效率，满足市场需求。
3、在模拟电路、数字电路、功率器件等领域，纳米压印技术能够实现降本增效，有助于推动这些领域的发展。
五，弯道超车？纳米压印光刻或将是一条值得期待的路线
NIL同EUV光刻一样是次时代光刻技术的代表，随着其技术的日渐成熟已经具备导入集成电路制造的条件。日经新闻网称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠、佳能等公司则规划在2025年将该技术实用化。且不论能否替代当前主流的EUV光刻机，随着苏大维格“光刻机已发货”这个乌龙事件，纳米压印这个技术路线浮出水面被市场捕捉到并进行挖掘，其概念后续发酵值得我们投资者继续关注。
六，概念股梳理
1，苏大维格：公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，向上海微电子提供光刻机用的定位光栅产品。已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局。
2，汇创达：公司专注于导光结构微纳米热压印生产工艺的自主研发，通过自身在光学微结构设计、微纳米压印模具开发、自动化制造等核心环节多年积累的技术优势。
3，秋田微：公司重点在研项目包括5G通讯用波长选择器(WSS)硅基液晶器件、自动驾驶激光雷达液晶光阀、纳米压印微结构及彩色电子纸器件、MiniLED显示模组、手势识别液晶显示模组等，已取得预期进展。
4，利和兴：公司二代全自动纳米压印设备的研发项目处于研发测试阶段，尚待后续验证。
5，兆驰股份：兆驰半导体通过自主设计变更和工艺方案优化，在行业内率先实现纳米压印技术的量产，进一步降低成本并缩短生产周期。
6，美迪凯：用纳米压印开发了光学模组技术。,
7，腾景科技：公司在进行纳米压印衍射波导片产品的研发。
8，炬光科技：光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件光场匀化器间接供货ASML，已布局纳米压印技术。
9，赛微电子：光刻机厂商的MEMS透镜部件供应商；公司核心技术人员陈金通参与或主导的“紫外光固化微纳米压印材料的研究与开发”等被评为市级科技项目。
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