半导体概念股

【美媒：美日荷已协议禁向华出售芯片设备，预计有关出口限制数月后实施】彭博社引述消息人士指，美国、荷兰及日本官员27日在华盛顿结束会议，三方就限制先进半导体制造设备出口到中国达成协议。报道指，根据协议，荷兰半导体设备制造商阿斯麦将不会出售制造芯片的光刻机给中国企业。日本也会限制尼康、东京电子等公司出口半导体制造设备到中国。美国白宫未有正面回应，只是表示会议讨论了对三方都很重要的议题。而荷兰外交部、日本经济产业省以及尼康都拒绝作出评论，东京电子公司也未有回应。

这两天关于光刻机的小作文非常多，我觉得有必要说明一下：

①duv深紫外光刻机包括arfi（即浸没式arf）、arf和krf三个子类，asml单是arfi光刻机就有四个子型号（2050i、2000i、1980Di和1970Ci），分别对应伪7nm（euv才是真7nm）、14nm、28nm和40nm制程。

②美国商务部bis对华管制的是14nm及以下制程成套设备，因为14和28共用部分设备，所以28nm设备对华出口也受审查。

③如果真像那些小作文写的，荷兰一刀切对华禁售所有arfi甚至arf光刻机，波及的制程可能是7-90nm，远远超过美国制裁范围，荷兰没有动机在美国制裁标准上自行“层层加码”。

但我认为ASML不会搬起石头砸自己的脚，虽然后台金主爸爸都是美国人，我们从ASML公司的股权架构与技术构成就可以知道，ASML本身就是一家美国公司，在光刻机的生产中，ASML采用的是全球产业链分工的模式，但光刻机的核心零部件光源，包含了德国、美国等多个国家，但主要来自于美国的企业。

美国Cymer公司是全球唯一一家极紫外光源供应商，只要Cymer公司切断极紫外光源供应，ASML的EUV光刻机就造不出来了。截至2020年末，阿斯麦的EUV光刻机中，美国零部件占比达55%以上。而且，阿斯麦的前三大股东均来自美国。所以，阿斯麦光刻机的实际控制方就是美国，ASML公司最大的股东是也美资本。只不过它的总部驻扎在荷兰而已。

ASML必然加大中国DUV销售，业绩和回购资金压力决定

不久前，光刻机巨头ASML宣布扩产EUV与DUV乃至于下世代EUV设备计划，该事件引发不少讨论。根据ASML的计划，其年产能提高到90台EUV和600台DUV光刻机，并表示基于不同的市场情景，ASML预计2025年其年收入在约300亿欧元至400亿欧元之间，此后ASML宣布了一项新的股票回购计划，计划回购最高 120 亿欧元的股票，在 2025 年的 12 月 31 日之前进行。

全球性芯片过剩，ASML扩产光刻机，卖给谁，能卖得动吗？很明显，这是要在中国市场加大DUV光刻机的出货量。

ASML为何在这个时候扩产DUV光刻机？

为什么这么说呢，这其实要从全球芯片市场的现状来看。在全球芯片产能过剩的情况下，中芯国际却在投入500多亿扩产28nm，这意味着全球芯片过程，中国没有过剩，中国市场有庞大的需求，因此，中芯国际需要扩大产能来满足市场需求。而与此同时，全球28纳米以上芯片最大制造产业集群就在中国，也只有中国还存在增加订购DUV光刻机的市场空间。

中芯国际扩产的另一方面原因是响应国家政策，因为国内提出芯片供给未来国产化要达到70%，要实现这样的目标，就必须扩大产能，另一方面，为了芯片的战略安全也需加快国产替代，减少对外依赖。

而不同于7nm以下的高端芯片更多用于小部分行业领域，28nm是成熟工艺，在很多行业用到，所以先稳安全，再攻克难关是比较现实的路径。

从国内对芯片的需求来看，28nm的芯片产品可以应用于新能源汽车、自动驾驶、家电、通信，以及物联网设备、路由器和机顶盒等领域，比7nm、5nm制程的芯片的市场需求要广泛的多，基本上可满足市场90%需求。

尤其是汽车电子绝大部分还是要28纳米以上的芯片制程。由于国内汽车产业在高速发展，对28nm的芯片需求非常庞大，因此，国产产能需要进一步提升，降低对进口的依赖，提升国产化率。

很显然，ASML看到了中国市场对7nm以下芯片的庞大需求，因此，从趋势推断，国内依然需要采购ASML公司的光刻机作为主要生产设备，甚至中国未来几年对DUV光刻机的需求是非常庞大的。

2021年第一季度销售数据显示，中国大陆从ASML采购的设备销售额占比从22%大幅上涨至34%，成为ASML最大市场。

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业内均知，芯片制程只要进入7nm，所生产芯片用的晶元仪器就得使用荷兰ASML公司的EUV光刻机，因为EUV光刻机的制程精度是当下最高的，能有效提升高端芯片产品在生产过程中的良率，也只有EUV光刻机才能够对它进行大规模加工，增大产出效率。目前中国最需要的EUV光刻机是被限制出货的。

而中国的DUV光刻机水平正在提升，目前很可能正在接近荷兰ASML公司DUV光刻机的水平。这才是荷兰ASML公司与美国焦虑的根源。

此外日本佳能与尼康都在扩建光刻机产能，试图占据中国空出来的市场，这肯定也是美国也不愿意看到的，而尼康佳能在光刻机技术层面的自主性要好的多，这两家公司在光刻机层面基本上不包含美国的核心技术，并且在DUV市场依然占据着一定的市场份额，实力也不容小觑。

ASML要把产能提升到600台，这意味着它一家公司就足以包揽全球中低端光刻机的需求，包括中国市场的需求，那么这其实就变相压制了佳能与尼康在市场上的生存空间以及它的逆袭机会。当然也包括想压制中国光刻机崛起。

ASML公司反水,美国与ASML公司的自导自演？

所以，一切就非常清晰了。所谓ASML公司反水，与美国的禁令对抗，ASML不仅没有“听话照办”，而且还发出了警告，称如果不把DUV光刻机卖给中国，那么全球半导体行业将面临中断的风险，因此破除阻力要向中国出售光刻机等等现象。

这其实是一个自导自演的双簧戏码。真相可能是，ASML公司破除阻力要向中国出售，扩大中国市场的份额，很可能也是美国授意的。

我们从ASML公司的股权架构与技术构成就可以知道，ASML本身就是一家美国公司，在光刻机的生产中，ASML采用的是全球产业链分工的模式，但光刻机的核心零部件光源，包含了德国、美国等多个国家，但主要来自于美国的企业。

美国Cymer公司是全球唯一一家极紫外光源供应商，只要Cymer公司切断极紫外光源供应，ASML的EUV光刻机就造不出来了。

截至2020年末，阿斯麦的EUV光刻机中，美国零部件占比达55%以上。而且，阿斯麦的前三大股东均来自美国。所以，阿斯麦光刻机的实际控制方就是美国，ASML公司最大的股东是也美资本。只不过它的总部驻扎在荷兰而已。

核心原因在于，中国大陆的光刻机事实上在加速前行，而且与国内客户的合作也在加强。比如积塔半导体的多次半导体设备招标中，国产光刻机均有中标份额。

从目前来看，国内企业和各科研单位对光刻机、EDA软件、光刻机胶等设备和材料进行了攻克，上海微电子于今年通过了28纳米光刻机的技术检测和认证，28纳米已经算的上是中端光刻机了，目前已处于量产阶段。据悉上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机。

当然在目前来看，国产DUV光刻机进展还处于保密阶段，毕竟，其中涉及到一些保密的敏感内容，但是国产光刻机很多关键的部分都已经取得了技术突破这是没有疑问的，组装成整机或许只是时间上的问题。

这也是为何，ASML公司有了与美国闹翻的假象。因为如果真正如果是基于利润最大化的需求要与美国闹翻，ASML公司要卖的是中国市场最需要的EUV光刻机，而EUV光刻机的利润也远高于DUV光刻机。

当前如果再不“闹翻”，DUV光刻机将丧失很大一部分市场份额，中国已经连续二年，成为全球最大的半导体制造设备买家，支出额同比增加58%，达296.2亿美元。

以往的历史经验告诉我们，一旦中国在某项技术领域取得突破，国外品牌会开始加大出货，甚至通过市场降价倾销的方式来限制国产品牌研发投入与产品竞争力。

如果未来某一天，中国EUV光刻机取得重大进展，那么同样的，ASML公司同样也可能会上演一出与美国资本“闹翻”的戏码，要向中国大量出货EUV光刻机

之前Asml售中光刻机谈判其实已经表露出对抗意愿

12月初也就是这两天美国与荷兰正在针对asml售中光刻机谈判的影响。

据彭博社报道，荷兰外贸与发展合作部长施赖纳马赫尔11月22日告诉议员，在与美国和其他盟国的贸易规则谈判中，荷兰政府将就阿斯麦向中出售芯片设备的问题上，做出自己的决定。

施赖内马赫说：“重要的是，我们要捍卫自己的利益、我们的国家安全，但也要捍卫我们的经济利益。如果我们把它放在欧盟篮子里去与美国谈判，最后结果就是我们得把极深紫外线光刻机交给米国，我们的境况会更糟。”为什么荷兰官员誓死也要维护自己的利益，一切都是因为asml，我们来看看下面一张图就知道怎一回事了。

从图中我们可以看出，asml2025年市场预估从图中我们可以看出，asml2025年的市场目标，低标是70台浸没式duv，190台干式duv。而高标是87台浸没式duv，290台干式duv。其中两款euv的销量没啥变。

为啥euv的销量高低标没变呢，因为这都是满产满销，asml做出来马上被台积电三星英特尔等三大抢走，一台也不会剩。但duv尤其是干式的高低标准则相差一百台之谱，这主要原因就是中国市场。

193nm ArF dry对应的芯片工艺是110～65nm。

193nm ArF+immersion对应的芯片工艺则是45～7nm。

以美bis新规定来看，涉及16nm以下工艺的全部禁止对中销售，工艺能达到7nm的浸没式duv肯定是不能卖给中，所以asml自己的预估浸没式duv的高低标的销量区别不大，这也肯定不是美荷谈判重点。

这次美荷谈判的重点就是193nm ArF dry 光刻机，如果这类型设备也不能卖，对asml来说那差距将达到一百台，40亿美金左右的销售额。2025年该设备能卖290台，如果被限制那就是低标只能卖给非中客户190台，这就是这一次美荷谈判的重点。我们要知道这类型光刻机对应的工艺是65～110nm。

美国想游说盟友，禁止中国110nm以下的所有工艺，而荷兰则希望从45nm开始限制即可，而这对国內芯片产业的影响也是至关重要的，28～110几乎是国內芯片制造需求最大的一个工艺范围。当然荷兰如果被米国拿下，日本的nikon势必也是比照办理，而这只能静待结果了。当然面对40亿美金的销售额，荷兰的到嘴肉，肯定也得紧咬不放，大概率会捍卫自己的利益。

而且上去年3月中芯国际从ASML12亿美金DUV采购合同执行完毕，所以28nm成熟制程的芯片是可以保证的。

另外有报道称，国产90nm光刻机已商用，DUV浸润式光刻机的主要技术也都攻克了，光源、镜头、双工件台都有了。上海微电子正在攻关的28nm的DUV光刻也有望即将交付，同时上海微电子还在进行14nm光刻机的研制与调试。而最先进的EUV光刻机(7nm以下)还没有开始整机立项研发，实现仍需要一段时间，但相关研究已经开展。

整体来看，这次小作文很可能是配合半导体板块拉升的机会，大家不要被烟雾弹所迷惑。重点还是关注国产替代和半导体设备以及年报预喜的个股。

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