光刻机不管是DUV还是EUV，最难的就四大块：光源系统、反射镜系统、双工件台、最后到整机集成

光刻机由三大核心系统，数万个零件组成，是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。

1）光源方面，DUV采用准分子激光器，技术掌握在Cymer和Gigaphoton手中，国内科益虹源打破垄断；EUV光源是通过高功率CO2激光器轰击Sn滴而来，高功率激光器为核心组件

2）光学系统是光刻机分辨率成像的保证，由照明系统和物镜系统构成，照明系统优化成像过程，实现分辨率增强；投影物镜系统将掩模图形聚焦成像，ZEISS为ASML关键光学元件独供商，国内技术水平仍有较大差距。

3）双工件台系统有效提高了光刻精度与效率，国内华卓精科和清华大学团队走在前列。

双工件台：超高精度超真空双工件台

超高精度超真空双工件台（DUV）:ASML(荷)、佳能/尼康（日）、华卓精科（中）

超高精度超真空双工件台（EUV）:ASML(荷)

北京华卓精科

华卓精科成立于2012年，主营业务为集成电路制造装备及关键零部件的研发和产业化。目前产品包括光刻机双工件台及其衍生产品超精密运动平台、激光退火设备、晶圆键合设备等。

万业企业：房地产+光刻机

互动易：万业企业作为上海半导体装备材料基金的主要LP，通过基金入股华卓精科，布局光刻机双工台核心设备 有强烈预期差

光刻清洗：富乐德、红宝丽

本次华为7nm芯片，其中最核心的步骤为多重曝光，是绝对增量环节，后续有望成为新的科技分支接力光刻机行情，务必重视!

其中，光刻胶清洗剂作为重要耗材，随着多重曝光技术的推进，用量大幅增加!

重点关注红宝丽，公司一异内醇胺可以用于电子化学品光刻胶清洗剂，是清洗剂上游必需品，有望深度受益于光刻胶多重曝光工艺。

奥普光电：EVU光源方面技术储备超过上海微电子

中科院长光所下唯一上市公司，公司而且本事做的也是光刻机镜头和光源的相关业务，虽然长光所的国科精密卖给了国旺光学，但长光所同时也持有了国望光学股份，而且从最近一些长光所的科技金奖项目和内部信息来看，它的EVU光源方面技术储备超过上海微电子，而且和哈工合作，在光刻机方面有巨大突破。但这个公司你问的时候都喜欢说我什么都没做，华工大被ZC大家都知道吧

富乐德：半导体设备洗净服务+显示面板设备清洗+次新股

①、公司是国内泛半导体设备精密洗净领先服务商，业务涵盖半导体设备洗净服务、显示面板设备清洗服务及半导体设备维修服务三大板块，目前已经掌握了成熟的28/14纳米制程PVD部件清洗再生技术，成功打破了日韩和欧美国家技术垄断。

②、根据芯谋研究发布的《国内泛半导体设备零部件洗净服务行业发展研报》(中国大陆地区),公司精密洗净等业务市场占有率处于国内领先地位。

③、客户端与英特尔、台积电、京东方等头部客户建立了合作关系，中芯国际为公司第三大客户。

④、公司所提供的半导体设备维修服务主要为HS翻新服务，主要是为CMP设备研磨头进行清洗、配件更换维修再生服务。
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